【中玻網(wǎng)】為了生產(chǎn)高質(zhì)量可鋼化Low-E玻璃，探討實(shí)驗(yàn)了在使用不同的硅鋁靶濺射功率時(shí)，如何選擇合適的工藝氣體流量和氬/氮?dú)獗壤�，使玻璃鋼化前后可�?jiàn)光透過(guò)率的變化很小。

　　實(shí)驗(yàn)條件。生產(chǎn)工藝為在玻璃表面依次沉積氮化硅、鎳鉻、銀、鎳鉻、氮化硅，底層氮化硅使用2個(gè)旋轉(zhuǎn)陰較，頂層氮化硅使用3個(gè)旋轉(zhuǎn)陰較，采用中頻濺射電源；鎳鉻和銀均為4 kW，采用平面陰較，直流濺射電源。玻璃傳輸速度為4 m/min，本底真空為（1.2~2.4）×10-4 Pa。

　　首先探討Low-E玻璃鋼化前后可見(jiàn)光透過(guò)率變化量在硅鋁靶使用不同濺射功率和工藝氣體流量時(shí)的表現(xiàn)。本實(shí)驗(yàn)采用常用的單銀可鋼化Low-E玻璃生產(chǎn)工藝，每次只調(diào)節(jié)鍍膜前、后硅鋁靶的濺射功率和工藝氣體流量、比例。工藝氣體氬/氮?dú)獗壤謩e為60∶40、50∶50、40：60，具體實(shí)驗(yàn)結(jié)果見(jiàn)下列圖表。

　　圖1氬/氮?dú)獗壤秊?0∶40時(shí)Low-E玻璃鋼化前后可見(jiàn)光透過(guò)率變化量隨濺射功率變化曲線

　　圖2氬/氮?dú)獗壤秊?0∶50時(shí)Low-E玻璃鋼化前后可見(jiàn)光透過(guò)率變化量隨濺射功率變化曲線

　　圖3氬/氮?dú)獗壤秊?0∶60時(shí)Low-E玻璃鋼化前后可見(jiàn)光透過(guò)率變化量隨濺射功率變化曲線

　　對(duì)比表1、表2和表3可以看出：①相同工藝氣體流量下，隨著氮?dú)獗壤奶岣�，硅鋁靶允許使用的濺射功率越高，說(shuō)明氮?dú)饬髁孔銐蚋邥r(shí)，硅鋁靶才能穩(wěn)定地工作在高功率下。氮?dú)饬髁枯^高時(shí)，Low-E玻璃鋼化前后可見(jiàn)光透過(guò)率變化量加大。②氬/氮?dú)獗壤秊?0∶60時(shí)，Low-E玻璃鋼化前后可見(jiàn)光透過(guò)率變化量在各種流量下，普遍偏大，生產(chǎn)過(guò)程中不應(yīng)采用。對(duì)比圖1、圖2和圖3可以看出，圖1曲線相互交叉現(xiàn)象明顯比圖2、圖3要多很多，沒(méi)有規(guī)律可循，但變化量的幅度很小。

　　其次探討工藝氣體流量對(duì)Low-E玻璃鋼化前后可見(jiàn)光透過(guò)率變化量的影響，工藝氣體流量分別為800 mL/min、1 000 mL/min、1 200 mL/min、1 400 mL/min、1 600 mL/min，具體結(jié)果見(jiàn)下列圖表。

　　圖4流量為800 mL/min時(shí)Low-E玻璃鋼化前后透過(guò)率變化量隨濺射功率變化曲線

　　圖5流量為1 000 mL/min時(shí)Low-E玻璃鋼化前后可見(jiàn)光透過(guò)率變化量隨濺射功率變化曲線

　　圖6流量為1 200 mL/min時(shí)Low-E玻璃鋼化前后可見(jiàn)光透過(guò)率變化量隨濺射功率變化曲線

　　圖7流量為1 400 mL/min時(shí)Low-E玻璃鋼化前后可見(jiàn)光透過(guò)率變化量隨濺射功率變化曲線

　　圖8流量為1 600 mL/min時(shí)Low-E玻璃鋼化前后可見(jiàn)光透過(guò)率變化量隨濺射功率變化曲線

　　對(duì)照表4~表8可以看出，工藝氣體流量小，硅鋁靶射功率上不去，高功率必須配大流量，在大流量下使用小功率，Low-E玻璃鋼化前后可見(jiàn)光透過(guò)率變化量加大。對(duì)照?qǐng)D4~圖8可以看出，工藝氣體流量越大，Low-E玻璃鋼化前后可見(jiàn)光透過(guò)率變化量的變化幅度越大。主要表現(xiàn)在大流量配低功率時(shí)，可見(jiàn)光透過(guò)率變化量的差值急劇增加，說(shuō)明大流量配小功率，會(huì)使鋼化前后可見(jiàn)光透過(guò)率變化量明顯加大。

　　為了生產(chǎn)高質(zhì)量可鋼化Low-E玻璃，在使用不同的硅鋁靶濺射功率時(shí)，如何選擇優(yōu)的工藝氣體流量和氬/氮?dú)獗壤�，在不同的生產(chǎn)線上的數(shù)據(jù)不盡相同，在不同的真空度下不盡相同，在靶材廠家、批次不同時(shí)也不盡相同。從實(shí)驗(yàn)分析可以看出，工藝氣體流量氬/氮?dú)獗壤x擇50:50時(shí)，在各個(gè)濺射功率下使用表現(xiàn)都很好，是很好的選擇。