20世紀(jì)90年代以來(lái)靶材已蓬勃發(fā)展成為一個(gè)有經(jīng)驗(yàn)化產(chǎn)業(yè)，中國(guó)及亞太地區(qū)靶材的需求占有世界70%以上的市場(chǎng)份額。大量不同的沉積技術(shù)用來(lái)沉積生長(zhǎng)各種薄膜，而靶材是制作薄膜的關(guān)鍵，品質(zhì)的好壞對(duì)薄膜的意義重大。目前高等品質(zhì)靶材主要由:日本、德國(guó)和美國(guó)生產(chǎn)，我國(guó)靶材產(chǎn)業(yè)起步較晚，在產(chǎn)品質(zhì)量與精細(xì)標(biāo)準(zhǔn)上與國(guó)外有不少的差距，國(guó)內(nèi)也有許多大學(xué)及研究機(jī)構(gòu)對(duì)靶材積較投入了大量鉆研與開(kāi)發(fā)，經(jīng)過(guò)這幾年的發(fā)展,珠三角也涌現(xiàn)了一批高新科技靶材廠家，其中少數(shù)成為了三星等全部知名企業(yè)的供應(yīng)商，他們?cè)趪?guó)內(nèi)占據(jù)了大部分中高等靶材市場(chǎng)份額。

　　1靶材應(yīng)用行業(yè)分類(lèi)

　　1.1裝飾、工模具鍍膜行業(yè)靶材鉻靶（Cr），平面鉻靶，噴涂鉻管；

　　鉻硅靶90/10Wt%,50/50at%,25/75at%(電弧，平面靶，旋轉(zhuǎn)管靶）；

　　鈦鋁靶50/50at%,70Ti/30at%,67AL/33at%（電弧，平面靶，旋轉(zhuǎn)管靶）；

　　鈦鋁硅靶1:1:1at%,1:2:1at%(電弧，平面靶，旋轉(zhuǎn)管靶）；

　　鈦靶，鈦管靶，鋯靶；

　　金靶、玫瑰金靶；

　　石墨靶，鎳靶，鋁靶，不銹鋼靶等。

　　1.2太陽(yáng)能光伏光熱行業(yè)靶材

　　氧化鋅鋁靶AZO；硅靶；鈦靶、氧化鈦靶；鋁靶；鉻靶、鎳鉻；鋅鋁、鎢、鉬靶等。

　　1.3建筑汽車(chē)玻璃大面積鍍膜

　　硅鋁靶、旋轉(zhuǎn)硅鋁靶；氧化鈦靶；錫靶；鉻靶；硅靶；鈦靶、不銹鋼靶。

　　1.4平面顯示行業(yè)

　　ITO靶；二氧化硅靶；高純硅靶4-7N；高純鉻靶3N5；TFT鉬靶；鉬鈮靶；鎢鈦靶90/10wt%；高純鋁靶等。

　　1.5光學(xué)，光通信，光存儲(chǔ)行業(yè)

　　銀靶；鉭靶；硫化鋅靶；高純鋁靶；硅靶。

　　2常用靶形

　　常用靶形有電弧靶、平面靶、旋轉(zhuǎn)管靶。

　　2.1平面靶材利用率提高方式

　　（1）改變磁鐵運(yùn)動(dòng)方向

　�。�2）改變磁力線分布寬度和高度

　　2.2靶材性能與要求

　　靶材質(zhì)量直接影響著薄膜的物理、外觀、力學(xué)等性能，因而對(duì)靶材質(zhì)量的評(píng)判較為嚴(yán)格，主要應(yīng)滿足以下要求：雜質(zhì)及氧含量低、純度高；致密度高；成分與結(jié)構(gòu)均勻；晶粒尺寸細(xì)小。

　　2.3劣質(zhì)靶材缺點(diǎn)

　　a)為熔煉鉻靶燒蝕后靶面情況

　　b)靶面有凹痕為引弧針安裝不當(dāng)導(dǎo)致的

　　c)水晶鍍膜靶材密度不夠，燒蝕后區(qū)別

　　d)等離子噴涂氧化鈦旋轉(zhuǎn)管靶不良